▲高性能電子光學系統
二次電子分辨率: 頂位二次電子探測器(2.0 nm at 1kV)＊
高靈敏度: PD-BSD, 強的低加速電壓性能，低至100 V成像
大束流(>200 nA): 便于微區分析
▲性能優良
壓力可變: 具有優的低真空(10 -300 Pa)成像性能，配備高靈敏度低真空探測器(UVD)＊
開倉室快速簡單換樣(大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
微區分析: EDS, WDS, EBSD等等
*選配附件
日立熱場式場發射掃描電鏡SU5000規格：
|
項目 |
內容 |
|
|
分辨率 |
1.2 nm @ 30 kV |
|
|
放大倍率 |
10 - 600,000× (底片倍率), 18 - 1,000,000× (800 × 600 像素) |
|
|
電子光學系統 |
電子槍 |
ZrO /W 肖特基式電子槍 |
|
加速電壓 |
0.5 - 30 kV (0.1 kV 步進) |
|
|
著陸電壓 |
減速模式: 0.1 - 2.0 kV ＊1 |
|
|
大束流 |
> 200 nA |
|
|
探測器 |
低位二次電子探測器 |
|
|
低真空模式*2 |
真空范圍: 10 - 300 Pa |
|
|
馬達臺 |
馬達臺控制 |
5 - 軸自動 (優中心) |
|
可動范圍 |
X：0～100mm |
|
|
大樣品尺寸 |
大直徑: 200 mm |
|
|
選配探測器 |
高分辨率頂位二次電子探測器＊1 高靈敏度低真空探測器 (UVD) 5分割半導體探測器 (PD-BSD)*3 能譜儀 (EDS) 波譜儀 (WDS) 背散射電子衍射探測器 (EBSD) |
|
*1：減速功能（包含高分辨率頂位二次電子探測器）
*2：低真空功能（包含5分割半導體探測器）
*3：空壓機(本地采購)
